台积电申请封装件及其制造方法专利,专利技术能实现图案化光学层以形成第一波导和光栅耦合器

发布日期:2024-03-27 03:50    点击次数:144

(原标题:台积电申请封装件及其制造方法专利,专利技术能实现图案化光学层以形成第一波导和光栅耦合器)

金融界2024年1月9日消息,据国家知识产权局公告,台湾积体电路制造股份有限公司申请一项名为“封装件及其制造方法“,公开号CN117369061A,申请日期为2023年8月。

专利摘要显示,方法包括:接收工件,工件包括衬底、位于衬底上方的第一介电层和位于介电层上方的光学层;图案化光学层以形成第一波导和光栅耦合器;在衬底中形成暴露第一介电层的第一开口,其中,第一开口的至少部分位于光栅耦合器正上方;在第一开口中沉积金属层;以及在金属层上方沉积第二介电层。本申请的实施例还涉及封装件及其制造方法。

本文源自:金融界

作者:情报员